表面處理是在基材表面人工形成與基材機(jī)械、物理和化學(xué)性能不同的表層的技術(shù)方法。表面處理的目的是滿足產(chǎn)品的耐腐蝕性、耐磨性、裝飾性和其他特殊功能要求。下面工采網(wǎng)小編帶你了解傳感器制造的幾種表面處理工藝，根據(jù)常見金屬表面處理工藝的分類方法，表面處理被劃分成四大種類：1、機(jī)械表面處理:噴砂、拋丸、磨光、滾光、拋光、刷光、噴涂、刷漆、抹油等。2、化學(xué)表面處理:發(fā)藍(lán)發(fā)黑、磷化、酸洗、化學(xué)鍍各種金屬與合金、TD處理、QPQ處理、化學(xué)氧化等。3、電化學(xué)表面處理:陽極氧化、電化學(xué)拋光、電鍍等。4、現(xiàn)代表面處理:化學(xué)氣相沉積CVD、物理氣相沉積PVD、離子注入、離子鍍、激光表面處理等。
工業(yè)時代以來傳感器能幫助人類將曾經(jīng)不可知、難判斷的信息變的容易獲取、數(shù)據(jù)更精準(zhǔn)，傳感器就已經(jīng)成為數(shù)字化社會極為重要的基礎(chǔ)設(shè)施，要用各種傳感器來監(jiān)視和控制生產(chǎn)過程中的各個參數(shù)，使設(shè)備工作在正常狀態(tài)或佳狀態(tài)，并使產(chǎn)品達(dá)到好的質(zhì)量。因此可以說，沒有眾多的優(yōu)良的傳感器，現(xiàn)代化生產(chǎn)也就失去了基礎(chǔ)。從應(yīng)用的角度來看，傳感器需具備一定的準(zhǔn)確度、穩(wěn)定性和可靠性，大多數(shù)企業(yè)對傳感器的研究集中在硬件改進(jìn)方面，不斷利用新材料來制作傳感器核心器件，通過改進(jìn)傳感器的制作工藝方法來提高傳感器的測量性能。下面具體了解一下傳感器制造的21種表面處理工藝。
機(jī)械表面處理：噴砂
噴砂是利用高速砂流的沖擊作用清理和粗化基體表面的過程，即采用壓縮空氣為動力，以形成高速噴射束將噴料（銅礦砂、石英砂、金剛砂、鐵砂、海南砂）高速噴射到需要處理的工件表面，使工件表面的外表面的外表或形狀發(fā)生變化。
化學(xué)表面處理：酸洗
化學(xué)表面處理技術(shù)是一種能夠有效預(yù)防不銹鋼材料產(chǎn)生腐蝕的方法，而且這種處理手段性價比較高。?一般來說，鉻元素含量越低，不銹鋼材料的耐腐蝕性越低。為了獲得佳的抗腐蝕性能，必須及時去除受損的金屬層，使合金不銹鋼表面具有更好的完整性。
對于有些牌號的不銹鋼材料，可能需要較長的酸洗時間。在這過程中有時還會產(chǎn)生一些嚴(yán)重的顏色問題等，這通常是由于氣體吹掃不良造成的。 單獨的采用機(jī)械方法移除表面雜質(zhì)可能會留下磨料或其他顆粒（可能影響到材料的抗腐蝕性能），而且，這種單一的機(jī)械方法通常是不足以對表面進(jìn)行完全清理的。如果使用機(jī)械手段，則還需要進(jìn)行化學(xué)鈍化處理以獲得材料佳的耐腐蝕性。酸洗過程有時會使用到一些強(qiáng)酸，例如使用氫氟酸（HF）和硝酸（HNO3）的混合物，去除污垢層和底部鉻耗盡層，以恢復(fù)其耐腐蝕性。HF和HNO3的混合物是常見的并且通常是有效的。值得一提的是，酸可以以凝膠或糊劑等不同的形式被使用。市售氫氟酸和硝酸的混合物大約含有高達(dá)25％的HNO3和8％的HF。酸洗解決方案還可以有效去除嵌入的污染物，如碳鋼、亞鐵和氧化鐵顆粒等。除HNO3和HF酸混合物以外，還有許多不同的酸洗溶液可以使用，有些酸洗溶液可以用于專門的應(yīng)用，但是它們的酸洗過程往往會稍慢一些。
電化學(xué)表面處理:陽極氧化
一種電解氧化過程，在該過程中，鋁和鋁合金的表面通常轉(zhuǎn)化為一層氧化膜，這層氧化膜具有 保護(hù)性、裝飾性以及一些 其他的功能特性。 從這個定義出發(fā)的鋁的陽極氧化，只包括生成陽極氧化膜這一部分工藝過程。將金屬或合金的制件作為陽極，采用電解的方法使其表面形成氧化物薄膜。金屬氧化物薄膜改變了表面狀態(tài)和性能，如表面著色，提高耐腐蝕性、增強(qiáng)耐磨性及硬度，保護(hù)金屬表面等。陽極氧化后的鋁或其合金，提高了其硬度和耐磨性，可達(dá)250～500千克/平方毫米，良好的耐熱性 ，硬質(zhì)陽極氧化膜熔點高達(dá)2320K ，優(yōu)良的絕緣性 ，耐擊穿電壓高達(dá)2000V ，增強(qiáng)了抗腐蝕性能 ，在ω=0.03NaCl鹽霧中經(jīng)幾千小時不腐蝕。
現(xiàn)代表面處理:物理氣相沉積PVD
Physical Vapor Deposition（物理氣相沉積），指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。Physical Vapor Deposition（物理氣相沉積），指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。
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