隨著電子工業(yè)的快速發(fā)展，對(duì)作為電子元器件基礎(chǔ)的印刷電路板及其加工精度的要求越來越高。其中，光刻是芯片制造中的圖案化過程，能夠?qū)D案從光掩模轉(zhuǎn)移到襯底上。光刻設(shè)備是微結(jié)構(gòu)加工的核心設(shè)備，廣泛應(yīng)用于微電子、生物、醫(yī)學(xué)和光學(xué)等領(lǐng)域。

現(xiàn)在市面上大部分的芯片都屬于電子芯片，當(dāng)電子芯片的工藝小于一定規(guī)模時(shí)，就必須依靠光刻機(jī)來做芯片。也就是說，沒有光刻機(jī)，就沒有辦法做出頂級(jí)芯片，比如市面上的7nm芯片、5nm芯片。芯片在生活中很重要，比如電腦、手機(jī)等電子產(chǎn)品。

光刻就是制作芯片制作所需的電路和功能區(qū)域。利用掩模光刻機(jī)發(fā)出的光，通過帶有圖案的掩模對(duì)涂有光刻膠的薄片進(jìn)行曝光，光刻膠看到光后會(huì)改變其性質(zhì)，從而可以將掩模上的圖案復(fù)制到薄片上，使薄片具有電子電路圖的功能。這就是光刻的作用，類似相機(jī)攝影。相機(jī)拍攝的照片印在底片上，但電路圖和其他電子元件是用光刻法蝕刻的，而不是照片。

紫外光刻的原理是在切割好的晶圓(通常是多晶硅)上覆蓋一層高感光的光刻膠，然后通過掩膜版用光(通常是紫外光、深紫外光、極紫外光)照射晶圓表面。紫外光照射的光刻膠會(huì)發(fā)生反應(yīng)。之后，用特定的溶劑清洗照射/未照射的光刻膠，并將電路圖從掩模轉(zhuǎn)移到晶片上。簡單來說就是用紫外線將多層電路圖刻在晶圓上，這個(gè)過程中必須使用光刻機(jī)。

需要注意的是，紫外光刻機(jī)對(duì)光源有一定的要求：

1、紫外線的波長要適中。波長越短，可以曝光的特征尺寸越小，光刻的刀片越鋒利，刻蝕的精度控制要求越高。

2、紫外線強(qiáng)度應(yīng)該足夠。能量越大，曝光時(shí)間越短；

3、紫外線曝光能量必須均勻分布在曝光區(qū)域。

紫外線傳感器是一種檢測紫外線強(qiáng)度的元件，可以用于檢測紫外光刻過程中紫外線的能量情況，工采網(wǎng)技術(shù)工程師推薦以下兩款紫外線傳感器：

韓國GENICOM 紫外線傳感器 - GUVA-T11GD-L，具有良好的可見盲，光伏模式操作，高響應(yīng)，低暗電流，應(yīng)用于全UV波段監(jiān)控，UV-A燈監(jiān)控，可廣泛應(yīng)用于：紫外線強(qiáng)度檢測和控制，UV指數(shù)檢測。

韓國GENICOM 可見光傳感器 - GVGR-T10GD，芯片小于0.4mm，TO-46封裝，使用的銦鎵氮材料，內(nèi)含PN型光電二極管，光伏模式操作，高響應(yīng)，低暗電流。

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