擴散爐主要用于半導體材料的生產(chǎn)，其工作原理是基于擴散過程的物理和化學原理。擴散過程即是一種集體輸運過程，即物質(zhì)在氣相或液相中從高濃度區(qū)域向低濃度區(qū)域的自發(fā)移動。... 繼續(xù)閱讀 »