真空濺射鍍膜是一種物理氣相沉積技術(shù)，濺射工藝是一種在靶材表面用離子轟擊靶材的技術(shù)。金屬膜或涂層通過蒸發(fā)、濺射和隨后在真空環(huán)境中冷凝而涂覆在金屬、玻璃、陶瓷、半導... 繼續(xù)閱讀 »