在半導(dǎo)體制造過(guò)程中，復(fù)雜的制程和對(duì)氣態(tài)分子污染物(AMC)敏感的區(qū)域較多，這將在未來(lái)幾年對(duì)腐蝕控制方面帶來(lái)多重挑戰(zhàn)。根據(jù)新版半導(dǎo)體路線圖白皮書的介紹，傳統(tǒng)半導(dǎo)體... 繼續(xù)閱讀 »