RTP快速退火爐是一種高溫熱處理設備，將晶片快速加熱到設定溫度（超過1000℃的高溫狀態(tài)），進行短時間快速熱處理的方法，從而控制材料的微觀結構的可控調節(jié)和物理性... 繼續(xù)閱讀 »