首頁(yè) › 半導(dǎo)體加工工藝化學(xué)氣相沉積（CVD）
標(biāo)簽: 半導(dǎo)體加工工藝化學(xué)氣相沉積（CVD）
流量控制器在半導(dǎo)體加工工藝化學(xué)氣相沉積（CVD）的應(yīng)用
薄膜沉積是在半導(dǎo)體的主要襯底材料上鍍一層膜。這層膜可以有各種各樣的材料，比如絕緣化合物二氧化硅，半導(dǎo)體多晶硅、金屬銅等。用來(lái)鍍膜的這個(gè)設(shè)備就叫薄膜沉積設(shè)備。薄膜... 繼續(xù)閱讀 »
