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流量控制器MFC2000在單晶爐設(shè)備的半導(dǎo)體行業(yè)中應(yīng)用
單晶硅爐，也稱全自動(dòng)直拉單晶生長(zhǎng)爐，是一種在惰性氣體（氮?dú)?、氦氣為主）環(huán)境中，用石墨加熱器將多晶硅等多晶材料熔化，用直拉法生長(zhǎng)無(wú)錯(cuò)位單晶的設(shè)備，將多晶硅原料放在... 繼續(xù)閱讀 »
流量控制器在半導(dǎo)體加工工藝化學(xué)氣相沉積（CVD）的應(yīng)用
薄膜沉積是在半導(dǎo)體的主要襯底材料上鍍一層膜。這層膜可以有各種各樣的材料，比如絕緣化合物二氧化硅，半導(dǎo)體多晶硅、金屬銅等。用來(lái)鍍膜的這個(gè)設(shè)備就叫薄膜沉積設(shè)備。薄膜... 繼續(xù)閱讀 »
