在半導(dǎo)體器件的制造過(guò)程中，各種真空處理室通常用于執(zhí)行特定的處理，例如薄膜沉積、蝕刻、氧化或氮化、熱處理等。在真空環(huán)境中待處理的半導(dǎo)體襯底上。另一方面，將半導(dǎo)體襯底從外部轉(zhuǎn)移到這種真空處理室通常通過(guò)具有在大氣壓力和真空狀態(tài)之間切換內(nèi)部壓力的裝載鎖定裝置來(lái)進(jìn)行。

在半導(dǎo)體器件的生產(chǎn)中，除了超凈環(huán)境外，有些工序必須在真空中進(jìn)行。我們生活的大氣環(huán)境中充滿了大量的氮?dú)?、氧氣和其他氣體分子，它們無(wú)時(shí)無(wú)刻不在運(yùn)動(dòng)。當(dāng)這些氣體分子移動(dòng)到物體表面時(shí)，其中一部分會(huì)附著在物體表面。

在一個(gè)大氣壓下，晶體表面的每一點(diǎn)每秒都會(huì)受到上億個(gè)氣體分子的沖擊。所以要得到干凈的晶體表面，氣體分子的密度通常要降到大氣密度的一億分之一，也就是需要真空環(huán)境。為此，人們制造了大大小小的密封容器，發(fā)明了各種真空泵，將這些密封容器中的空氣抽出，使其內(nèi)部成為真空環(huán)境。

例如，為了在真空條件下在諸如用于FPD(平板顯示器)的玻璃基板的基板上執(zhí)行等離子體蝕刻、等離子體灰化、等離子體膜形成和其他工藝，通常使用真空處理設(shè)備。將襯底從外部轉(zhuǎn)移到真空處理裝置是通過(guò)裝載鎖定裝置進(jìn)行的，該裝載鎖定裝置配備有用于襯底待機(jī)的待機(jī)平臺(tái)(緩沖平臺(tái))和能夠在大氣壓和真空狀態(tài)之間切換內(nèi)部壓力的真空準(zhǔn)備室。

一般來(lái)說(shuō)，負(fù)載鎖定裝置設(shè)置在真空傳送室和大氣壓力環(huán)境的外部之間，例如襯底盒或工廠接口。真空傳送室與每個(gè)真空處理室連接，形成集成的真空處理裝置，襯底可以通過(guò)真空傳送室中的機(jī)器人傳送到每個(gè)真空處理室。當(dāng)負(fù)載鎖定裝置被切換到大氣壓狀態(tài)時(shí)，來(lái)自大氣壓環(huán)境的襯底被運(yùn)送到負(fù)載鎖定裝置中，然后負(fù)載鎖定裝置被切換到真空狀態(tài)，其中襯底被運(yùn)送到真空運(yùn)送室。

由此可見(jiàn)，真空負(fù)載鎖真空度是很重要的性能指標(biāo)，可以對(duì)其真空度進(jìn)行檢測(cè)，以便達(dá)到使用環(huán)境要求，工采網(wǎng)推薦使用熱導(dǎo)傳感器，如工采網(wǎng)代理的瑞士Neroxis 熱導(dǎo)式氣體傳感器 微型皮拉尼真空計(jì) 壓力計(jì) - MTCS2300系列，采用鎳鉑電阻MEMS技術(shù)， 將一個(gè)大微機(jī)械低應(yīng)力氮化硅膜、兩個(gè)加熱用薄膜電阻以及體硅上的兩個(gè)補(bǔ)償用參考電阻，集成在微型封裝中。

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